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仪器设备

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首页仪器设备刻蚀

电感耦合等离子体刻蚀（ICP）（化合物）

OXFORD，PlasmaPro 100 Cobra

感应耦合等离子体刻蚀机（介质）

OXFORD，PlasmaPro 100 Cobra

感应耦合等离子体刻蚀机（金属）

OXFORD，PlasmaPro 100 Cobra

深硅刻蚀机

OXFORD， PlasmaPro 100 Estrelas

反应离子刻蚀机

SENTECH，SI 591

化学辅助离子束刻蚀机

OXFORD，Ionfab300

离子束刻蚀机

埃德万斯，IBE-200

二氟化氙气相刻蚀机（XeF2）

Mems Star，Orbis Alpha XeF2

等离子体去胶机

稷以，Virgo-D

湿法刻蚀机（金属刻蚀、去胶）

施密科，NBTJ-KS-06

湿法刻蚀清洗机（化合物、SiO2）

施密科，SS-T08-FSW-07B

化学蚀刻清洗台1

思恩，SN-CECT-1-200-SZ

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