第一章 总则

为保障半导体微纳加工中心（以下简称“中心”）仪器设备的安全、稳定运行，维护洁净室环境，确保用户安全、高效地开展教学、科研等相关工作，依据学校及实验室相关管理规定，特制定本条例。

本条例适用于所有进入实验室的人员，包括但不限于校内学生、教职工以及校外用户等。

中心对用户违规行为施行“预防为主、教育与处罚相结合”的原则。任一违规行为一经查实，将记入用户档案，并视情节轻重给予相应处罚。

第二章 违规行为分类与处罚标准

中心对违规划分三个等级：一级违规（轻微）、二级违规（一般）、三级违规（严重）。

第一条：一级违规（轻微）

指违反实验室日常管理规定，但未对设备、环境或他人造成直接影响的行为。包括但不限于以下情形：

1.进出洁净间未刷本人门禁卡，未经允许擅自带领他人进入洁净间；

2.因个人账户保管不善导致账户他人使用的；

3.进入洁净间未按规定规范穿着洁净服、鞋帽、口罩等；

4.擅自携带个人物品，包括食物、饮料、电脑、非无尘纸等进入洁净室；

5.在洁净区域内饮食、喧哗或进行与实验无关的活动；

6.在洁净室内嬉戏、打闹、奔跑等；

7.未经允许，擅自进入受控区域；

8.未按指定出入口进出洁净室；

9.非紧急情况下穿戴洁净服走出洁净室；

10.未经允许擅自使用他人实验用品；

11.未经允许，擅自在实验室内拍照、摄像；

12.实验结束后，未及时清理个人试验区域，遗留物品或废弃物；

13.未按规定使用公共器皿、试剂等，未按规定对化学品进行标签标识；

14.未按规定使用和分类处置公共耗材与废弃物。

处罚措施：

1.首次发现：口头警告，并记录在案；

2.累计两次：书面警告，撤销实验室进入权限，需重新参加实验室安全培训，考核合格后方可重新开启权限。

第二条：二级违规（一般）

指违反设备或工艺操作规程，对设备运行、实验环境或他人工作造成潜在风险或影响的行为。包括但不限于以下情形：

1.未经设备授权培训，擅自操作仪器；

2.未按规定使用设备；

3.使用设备后，未按规定将设备恢复至待机或安全状态；

4.未经许可，擅自调整仪器参数或修改标准工艺流程；

5.进行涉及危险化学品的实验时，未按规定穿戴防护装置，例如防护手套、护目镜等；

6.在设备专用计算机上进行与工作无关的操作，如私自安装软件、游戏等；

7.未经允许，擅自使用中心收费耗材；

8.独自进行危险化学品操作。

处罚措施：

1.首次发现：书面警告，记录在案，停用相关设备使用权限1个月。

2.累计两次：撤销洁净间进入权限和设备使用权限，需重新参加实验室安全培训、设备操作培训，考核合格后方可重新开启权限。

第三条：三级违规（严重）

指因违规操作导致设备故障、损坏或引发安全事故，造成财产损失、人员伤害或恶劣影响的行为，包括但不限于以下情形：

1.违规操作导致设备故障、损坏或性能下降；

2.发生设备异常或事故后，隐瞒不报或未及时通知管理人员；

3.未经许可，擅自携带化学品、易燃易爆品进入洁净间；

4.不按规定操作使用危险化学品并造成人员伤亡或设备损失；

5.因操作不当或违规操作引发安全或设备事故，例如化学品泄漏、气体泄漏、火灾等；

6.恶意破坏、盗窃实验室物品或数据；

7.半年内多次二级违规行为（≥3次）；

8.其他严重威胁人员或设备安全，扰乱实验秩序，影响恶劣的行为。

处罚措施：

1.首次发现：永久撤销实验室进入权限，全校通报，全额赔偿经济损失；

2.涉及违法犯罪的，移交相关部门处理。

第三章 处罚执行程序

中心管理人员负责违规行为的监督、取证和认定。认定依据包括监控录像、设备使用记录、现场检查等。

处罚决定将以邮件形式正式通知违规用户本人，校内学生违规时，同时通知其导师或项目负责人。

用户如对处罚决定有异议，可在收到通知后三个工作日内向中心负责人提交书面申诉。由中心负责人组织中心管理人员复核审议并做出最终决议。

第四章 附则

本条例自发布之日起施行，由半导体微纳加工中心负责解释和修订。中心保留根据实际运行情况对本条例进行补充和调整的权利。