半导体微纳加工中心是深圳技术大学“十四五”期间重点建设的公共服务平台。中心自2025年12月落成便开始试运行，已陆续开放大量仪器设备供用户使用。根据上级部门要求，中心需定期上报服务成效，包括但不限于服务用户数量、机时、收入、及产生的相关成果；此外，为了提升中心的影响力和服务能力，激励运营团队更好地提升技能、更好的服务用户，中心建议用户在成果发表时对中心予以署名和致谢。中心将对相关用户提供设备机时奖励，并在相同条件下提供优先的技术支撑服务。署名和致谢样式要求如下：

1、对中心的署名

建议将中心名称作为用户单位进行署名：“深圳技术大学半导体微纳加工中心”或者“Center for Micro and Nano Fabrication，Shenzhen Technology University”。

2、对工程师的署名

如果中心工程师在用户的工作中做出了显著的贡献，建议用户将工程师列为论文或专利的共同作者，工程师署名单位为“深圳技术大学半导体微纳加工中心”或者“Center for Micro and Nano Fabrication，Shenzhen Technology University”，署名顺序由用户根据工程师贡献情况决定。

3、对中心的致谢

（1）发表论文或专利：

中文版致谢“本文的部分工作在深圳技术大学半导体微纳加工中心完成”。

英文版致谢“This work was partially carried out at the Center for Micro and Nano Fabrication，Shenzhen Technology University”。

（2）对于学术报告和会议展板，建议将中心名称放到致谢的机构列表中：“深圳技术大学半导体微纳加工中心”或者“Center for Micro and Nano Fabrication，Shenzhen Technology University”。

4、对工程师的致谢

如果中心工程师对用户的微纳设计和加工有显著的贡献，建议发表成果时致谢工程师。

中文版致谢“本文的部分工作在深圳技术大学半导体微纳加工中心完成，感谢XXX提供微纳加工的帮助”。

英文版致谢“This work was partially carried out at the Center for Micro and Nano Fabrication，Shenzhen Technology University，and we thank XXX for his/her help on micro and nano fabrication”。