2026年4月30日，半导体微纳加工中心（以下简称“中心”）设备精细化培训系列活动之原子力显微镜（Park NX20）专场顺利开展，本次活动旨在提升师生在纳米尺度形貌表征方面的能力，助力半导体器件、二维材料、薄膜科学、纳米光学等前沿领域的研究与开发。

原子力显微镜（AFM）作为纳米尺度表征的重要工具，可实现高分辨率三维表面形貌测量，广泛应用于半导体材料研究、纳米结构分析、表面粗糙度与缺陷表征等领域。中心配置的Park NX20原子力显微镜，是韩国Park Systems公司推出的高精度、全自动科研级AFM，设备具有超高成像精度，垂直分辨率低至0.03 nm（亚埃级），横向分辨率可达0.15 nm，可清晰呈现原子台阶、纳米颗粒、表面缺陷等精细结构，此外设备还配备了静电力显微镜（EFM）、开尔文探针力显微镜（KPFM）及纳米力学成像模块，可同时获取样品的形貌、电势、硬度及弹性模量等信息，兼容8英寸及以下晶圆尺寸，配备200 mm×200 mm全自动位移台。

在本次培训中，中心工程师从设备硬件与工作原理入手，系统地讲解了Park NX20的完整操作流程，涵盖了从样品制备、探针校准、扫描模式选择、扫描参数设定与优化以及数据处理与分析。此次培训特别安排了多次上机实操环节，确保每位学员都能亲手操作设备，并获得中心工程师的针对性指导，学员们在实际操作中加深了对参数调节、图像采集与问题排查的理解，真正做到了学以致用。

通过本次培训，学员们系统地掌握了Park NX20原子力显微镜的工作原理与操作方法，具备了进行纳米形貌表征及物性分析的基本能力。微纳加工中心始终致力于高精尖设备的开放共享与人才培养，中心将持续推出设备精细化培训系列活动，为校内师生、科研院所及企业研发提供全方位技术支撑。欢迎更多师生积极参与，共同推动微纳制造技术的创新与发展！