半导体微纳加工中心（以下简称“中心”）作为深圳市首个同时支撑化合物光电芯片与MEMS传感芯片上游制造的公共服务平台，为了更好地向校内校外用户提供专业化、高效化的公共技术服务，于2026年6月2日顺利开展了设备精细化培训系列活动之离子束刻蚀机设备专场。

离子束刻蚀机是干法刻蚀工艺中常用的工艺设备，中心配置的离子束刻蚀机为北京埃德万斯离子束技术研究所股份有限公司的IBE-200。该设备用于金属薄膜刻蚀，例如Ti、Cu、Au等。该设备采用考夫曼离子源，利用阴极灯丝产生的热电子引发氩气电离产生Ar⁺等离子体，在高压加速电场作用下，形成Ar⁺离子束轰击样品，达到蚀刻样品的效果，属于纯物理作用刻蚀。该设备适应样品尺寸为6英寸及向下兼容，刻蚀均匀性≤±5%。

培训期间，中心工程师围绕离子束刻蚀机开展授课，从设备硬件构造、软件配置、设备工作原理、操作流程及常用工艺参数设置等内容进行详细讲解。在学员了解设备基础构造、软件操作后，工程师利用测试样品开展了实操教学，全流程展示样品加载、工艺菜单编辑、工艺程序运行、刻蚀过程监控、卸载样品等规范操作，详细说明各个步骤的注意事项，从源头规避人为的错误操作导致的设备故障。全流程的操作展示完毕后，参训学员依次亲自按规范流程实际操作设备，工程师现场指导，及时提醒注意事项、纠正不规范操作并解答相关疑问，帮助学员在实操中深化理解设备原理、设备操作，夯实学员的实际操作能力。

本次培训圆满完成，参训学员系统掌握了离子束刻蚀机的原理，并结合实际操作提升对设备运行逻辑与工艺参数关联性的认知，切实提升了独立开展刻蚀实验的能力；通过这次培训，中心也为后续设备对外开放共享、开展对外技术服务筑牢基础。